kos-system (laser micromachining system)
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Kortherm Science Co., Ltd
회 사 소 개 서< Company Profile >
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㈜코썸 사이언스는 Laser Application 분야 및 Nano/MEMS Processing 분야의 장비를 공급하는 기술 혁신형 기업 입니다.
㈜코썸 사이언스는 1999년 창립 이후 Hot Embossing System,EUV Lithography, Interferometer 등의 장비를 연구소, 학교, 대기업등에 공급하여 왔으며, 최근 Laser Micro machine 및 3D Profiler를자체 개발 생산하고 있습니다.
㈜코썸 사이언스는 지금까지 축적된 경험과 지식을 바탕으로 Laser 응용 분야의 세계 최고 기술 개발을 목표로 하고 있습니다.
㈜코썸 사이언스는 최고 수준의 제품과 서비스를 제공하기 위해 최선의 노력을 다하겠습니다
코썸 사이언스 는
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회사 개요
대표이사 : 변 주 삼
임직원수 : 12 명
자본금 : 2 억
2007년 예상 매출액 : 약 30 억
장비 납품 실적 : 150건 이상
주소
인천광역시 부평구 청천동 425번지 우림 라이온스 밸리 C동 1203B
연락처
TEL : 032-623-6320, FAX : 032-623-6325
홈페이지
www.kortherm.co.kr
www.kortherm.co.kr
1999 (주)코썸 사이언스 창립
1999 Neoark Laser Micromachining system 소개 (Agent 계약)
2000 Exitech Laser Micromachining system 소개 (Agent 계약)
2003 KIST – M2000 시스템 설치
2005 NNFC – M2000 시스템 설치
2005 KOS Series system 개발
2005 경북대학교 – KOS1000 설치
2006 부산대학교 – KOS1000 설치
2007 동아대학교, KPE, 삼성 등과 공정장비 개발 협의 중
기술 혁신형 중소기업 인증 (INNO-BIZ)
연구전담부서 설립,
벤처기업 인증
중소기업 기술혁신 개발사업 주관기업선정
회사 연혁
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CEO
경영지원부Administrative Service
Department
기술영업부Engineering Sales
Department
기술개발부Technology Development
Department
기술영업 1팀Engineering Sales Team 1
기술영업 2팀Engineering Sales Team 2
레이저 응용기술 연구팀Laser Application Technology
Development Team
광 기술 연구팀Optic Technology Development Team
소프트웨어 개발팀Software Development Team이사회
Board of directors
총무 인사팀General Affairs Team
구매 관리팀Purchasing Management
Team
회사 조직
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R&D 인력 : 8명박사 3명석사 4명학사 1명
개발팀장 : 서종식 (포항공대 대학원 – 물리학 전공)Mechanical Engineer : 윤홍식 (국민대 대학원 – 기계공학 전공)Process Engineer : 김정한 (연세대 대학원 – 재료공학 전공)Software Engineer : 강동오 (국민대 대학원 – 기계공학 전공)Optic Engineer : 김재진 (청주대학교 – 레이저 광 공학 전공)Technical support : 진병문 교수(동의대) , 문병기 교수(부경대)
김철한 박사 (부산대)
연구개발인력
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Laser Processing SystemELA (Excimer Laser Annealing) 시스템 개발 (경북대)
Laser annealing system 개발 (부산대)
Oxidation catalysis system 개발 (화학연구원)
Wafer cutting system 개발 (삼성전자)
Solar cell Laser fired contact system 개발 중 (KPE)
Solar Cell 양산 장비 개발 중 (에너지기술 연구원, etc)
Laser Measurement SystemSurface profiler 개발 (KPE)
장력측정 시스템 개발 (부경대)
PIV (Particle Image Velocimetry) 시스템 개발 중 (동아대)
Laser Interferometer 시스템 개발 중 (KAIST, KRISS)
납품실적
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Manufacturing Item
Laser Micromachining System (KOS system)
3D Profiler system
LIBS (Laser-Induced Breakdown Spectroscope)
LD Controller
PLD (Pulsed Laser Deposition)
제품소개
Offer Business Items
Hot Embossing System (Jenoptik – Germany)
EUV Lithography System (AixUV – Germany)
3D Profiler System (NanoFocus – Germany)
Laser Doppler Vibrometer System (Sunwave – Taiwan)
Spatial Light Modulator (HoloEye – Germany)
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Kortherm Products & Solutions
Laser Micromachining System (KOS system)
3D Profiler system (KOS-P)
LIBS (Laser-Induced Breakdown Spectroscope)
LD Controller
PLD (Pulsed Laser Deposition)
주요제품 (I) – Manufacturing Items
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KOS 시스템 개요
Laser Micromachining System
Sealed optics boxes
Lasers and optics mounted
to Granite for robust reliable operation
Vibration isolation
Up to 300 x 300mm travel X-Y stages
Motorized stages (3-Axis)
Vision system (pattern recognition,
monitoring)
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KOS 시스템 응용 사례
Applications of Laser Micromachining System
Nozzle drilling
Inkjet printers
PCB via hole
Wafer cutting & scribing
Marking
Thin firm scribing for FPD
Solar cell scribing
Excimer Laser Annealing
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대면적 Micromachining System(주1) Overview
Laser Micromachining for Large Area
DISPLAYS
Patterning thin films for FPDs
Annealing TFTs for AMLCD FPDs
Mastering of micro-lens arrays
SOLAR POWER
Solar cells
Solar panels
Type DPSS laser
Wavelength 532-1064nm
Pulse duration <50ns
Power >20W
Repetition rate 10.. 200 kHz
(주1) 본 연구는 2007~2008년 중소기업기술혁신개발사업의 일환으로 개발 진행중 입니다.
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Applications of Micromachining for Large Area
대면적 Laser 미세가공 응용 사례
50 µm scribe in Mo 50 µm scribe in ZnO
Solar cell scribing
Black matrix patterningMin. width = 5μm
ITO patterning on Glasswidth = 80μm
ITO patterning on Glasswidth = 200μm
FPD Patterning (LCD & PDP)
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3D Profiler System : KOS-P
KOS-P 시스템 개요
Laser Source: 650nm Diode laser
Measuring range: ±1mm
Resolution: 0.01um
Linearity: ±0.03% of FS
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LIBS, LD Controller
LIBS 시스템 SpecificationsLaser: Nd:YAG, 1064 nm, 10 ns pulse width, 100 or 200 mJ/pulseOptical: Czerny-Turner spectroscopeDetector CCD or Photodiode ArrayWavelength range: 200-950 nm (up to 1200 nm available)Spectral resolution: 0.1 nm @ 300 nmA/D Conversion time: 1 M samples per second
LD Controller Specifications
Drives up to 1 watt laser diode in CW mode
Monitors & controls diode temperature
Monitors diode current with series resistor
Controls diode current
Monitors & controls thru built-in photodetector
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Offer Business Items
Hot Embossing System (Jenoptik – Germany)
EUV Lithography System (AixUV – Germany)
3D Profiler System (NanoFocus – Germany)
Laser Doppler Vibrometer System (Sunwave – Taiwan)
Spatial Light Modulator (HoloEye – Germany)
주요제품 (II) – Offer Business Items
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Hot embossing system 주요Spec (HEX 04)
Higher throughput and also fully automatable for full scale production runs at larger institutes & manufacturing companies
• Pressing force increment :10N, 20N, 30N
• Maximum pressing force : 400kN • Cycle time : 3 minutes • Temperature stability : ± 1oC • Maximum substrate diameter : 300mm • Overlay accuracy : ± 2um
Jenoptik - Hot Embossing System
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Micro-optic Micro-fluidic Micro-mechanic
L.O.S fiber
Cannon
Fuji
Blusi
Bosch
JENOPTIK PC MT
LSU
LTU
JENOPTIK PC MT
Applications of Hot Embossing System
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AIXUV - EUV Lithography
Parameters of AIXUV’s EUV-Lamp
- EUV-Yield (total) : >50mJ /pulse
- EUV-Yield inband : >5mJ / pulse
- Input per pulse : 2J
- Input power : 200W
- Repetition rate : 100Hz
- Guaranteed lifetime of electrode : >250,000,000 pulse
- Certificates : CE, VDE
- Interface : CF-flange
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NanoFocus – 3D Profiler
Confocal microscope µSurf
area technique
Nanometer resolution
for MEMS, 3D surface analysis
Vertical resolution: 1nm
Lateral Resolution: 300nm
Scanning profilometer µScan
moving x/y-stages
different z-probes(autofocus, confocal, chromatic)
for profile, flatness co-planarity
vertical resolution: 20nm
Lateral Resolution: 1um
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Sunwave - Interferometer
Laser Source: He-Ne Laser
Spot diameter: 50X: 5um
Band width: 20MHz for Doppler signal
Displacement error: 0.4% of F.S
Max. Velocity detectable: DPU (Digital processing unit) –6.3m/s
Displacement detectable: 0.1 nm ~ 0.5 mm
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HoloEye – Spatial Light Modulator
Projection 응용
- Printer applications (Imaging, 3D)
- Optical Metrology and Fringe Projection
- Special projection applications
- HUDs and HMDs in airborne and defense
industries
- HUDs for automotive applications
- SLMs for R&D
- High resolution NTE applications (viewer)
Phase Modulation 응용
- Telecommunication 및 Holographic security systems
- Rapid DOE prototyping 및 Dynamic calibration
- Bio-Photonics applications
- Wave front generation
- Digital Holography, dynamic diffractive optics
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기업삼성전자, 삼성전기, 삼성 SDILG 전자, LG 화학
국가 연구센터KIST,KAIST ETRI, KETI, KRISS, KIMM나노 종합 팹 센터(경기/대전/포항/광주)고등기술연구원생산기술연구원광주과학기술원
대학기관서울대, 부산대, 경북대, 포항공대, 한양대, 연세대
주요 Customer