液中プラズマの 「昔」 と 「今」...3.2 kv 10 khz 2 µs/on microplasmas at interface 2.4...

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大阪市立大学 産学官連携推進本部 TEL: 06-6605-3614 FAX: 06-6605-2058 Email: [email protected] http://www.osaka-cu.ac.jp/ja/research/collaboration_office 大阪市立大学 工学研究科 電子情報系専攻 白藤 液中プラズマ処理の高効率化に向けた開発 低温液中プラズマ 昔からの液中プラズマ 『高温』 ~数千K 最近の液中プラズマ 『低温』 ~数百K ●液中プラズマの 「昔」 と 「今」 ●液中 『低温』 プラズマの特徴と用途 従来の液中 『高温』 プラズマ : 溶接などに限定される 最近の液中 『低温』 プラズマ : 多岐に渡る応用が模索されている (炭化水素分解,カーボンナノ材料合成などもあるが) ・ 分解系応用 水処理 (難分解性物質分解 ・ 殺菌) ・ 合成系応用 ナノ材料合成 ・ 薄膜合成 ・ 修飾系応用 ナノ材料高分散化 特徴 低温 容器 ・ 対象物の選択肢が豊富 (生体も) 高媒質密度 高速 ・ 大量プロセスの可能性 高活性 短寿命 ・ 高活性ラジカルの利用 UV・O3よりも高効率の可能性 ※UV・O3発生はプラズマによる (間接的)

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  • 大阪市立大学 産学官連携推進本部TEL: 06-6605-3614 FAX: 06-6605-2058 Email: [email protected]

    http://www.osaka-cu.ac.jp/ja/research/collaboration_office

    大阪市立大学 工学研究科 電子情報系専攻 白藤 立

    液中プラズマ処理の高効率化に向けた開発

    低温液中プラズマ

    昔からの液中プラズマ

    『高温』 ~数千K

    最近の液中プラズマ

    『低温』 ~数百K

    ●液中プラズマの 「昔」 と 「今」

    ●液中 『低温』 プラズマの特徴と用途

    従来の液中 『高温』 プラズマ : 溶接などに限定される

    最近の液中 『低温』 プラズマ : 多岐に渡る応用が模索されている

    (炭化水素分解,カーボンナノ材料合成などもあるが)

    ・ 分解系応用 ⇒ 水処理 (難分解性物質分解 ・ 殺菌)

    ・ 合成系応用 ⇒ ナノ材料合成 ・ 薄膜合成

    ・ 修飾系応用 ⇒ ナノ材料高分散化

    特徴

    ・ 低温 ⇒ 容器 ・ 対象物の選択肢が豊富 (生体も)

    ・ 高媒質密度 ⇒ 高速 ・ 大量プロセスの可能性

    ・ 高活性 ⇒ 短寿命 ・ 高活性ラジカルの利用

    ⇒ UV・O3よりも高効率の可能性

       ※UV・O3発生はプラズマによる (間接的)

  • 大阪市立大学 産学官連携推進本部TEL: 06-6605-3614 FAX: 06-6605-2058 Email: [email protected]

    http://www.osaka-cu.ac.jp/ja/research/collaboration_office

    大阪市立大学 工学研究科 電子情報系専攻 白藤 立

    液中プラズマ処理の高効率化に向けた開発

    ●液中 『低温』 プラズマの課題 (の一つ)

    大容量化

    液体容量に対するプラズマのサイズがあまりにも小さい

    ●これまでの研究成果

    Side View

    40 mm

    ITO (for top-view observation)

    Copper plate

    Quartz ( t = 1mm, diam.= 10 cm)

    Melamine foam ( t = 2 cm)w/ aqueous solution

    M.B. 50 mg/L, 120 uS/cm (KCl)

    Insulator shield to avoidunintentional dischargesPulse

    voltagesource

    3.2 kV10 kHz2 µs/on

    Microplasmas at interface

    2.4 kV 15 kHz

    2 mmW-electrodesPTFE

    Glass MWNT

    Aqueous solutionNH3 1x10

    -4 mol/L

    Porousdielectric

    HV metalelectrode

    Liquid in

    Insulator

    φ30 mm

    Gas

    Liquid out

    φ2 mm x 6

    BorosilicateGlass (Duran)t 2 mm

    Silicate glassPore diameter1 mm (average)

    SUS3041/4 inch (OD)

    φ3

    0 m

    m t 3 mmPlasma

    Plasma

    J. Hieda, T. Shirafuji, Y. Noguchi, N. Saito, and O. Takai:J. Jpn. Inst. Metals 73, 938-942 (2009).

    T. Shirafuji, J. Hieda, N. Saito and O. Takai:ISPC-20, 2011, Philadelphia, U.S.A.

    T. Shirafuji, A. Nomura and Y. Himeno:Plasma Chem. Plasma Process., 34, 523-534 (2014).

    2 mm

    10 cm

    3 cm

    面 体点2009 2011 2014

    (a) (b)

    5 cm

    0 6010 20 30 40 50 min

    4

    3

    2

    1

    0

    Ab

    sorp

    tio

    n C

    oe

    ffic

    ien

    t (c

    m-1

    )

    800700600500400

    Wavelength (nm)

    0 min

    10 min

    20 min

    30 min

    Methylene Blue 3.8 mg/L, 150 mL, 30oC

    5 kV, 20 kHz, TON 2.3 usAr 1.1 L/min

    60 min

    ナノ材料の改質 ナノ材料の合成

    液体処理

    T. Shirafuji, Y. Noguchi, T. Yamamoto, J. Hieda, N. Saito, O. Takai, A. Tsuchimoto, K. Nojima and Y. Okabe: Jpn. J. Appl. Phys. 52, 125101 (6pp) (2013).

    95

    90

    85

    80

    75

    Yiel

    d st

    ress

    (MP

    a)

    (a) Tensile test

    +10%+12%

    125

    120

    115

    110

    105

    Ben

    ding

    str

    engt

    h (M

    Pa)

    (b) Bending test

    +8% +8%

    5.4

    5.2

    5.0

    4.8

    4.6

    Impa

    ct s

    tren

    gth

    (kJ/

    m) (c) Charpy impact test

    -7%

    -3%

    PA6 PA6 /MWCNT

    (0.5 wt.%)

    PA6 /SPP-treated

    MWCNT(0.5 wt.%)

    従来の溶液化学プロセスよりも 『簡素化』&『高速化』

    従来法=168 時間,60℃昇温    +硝酸 (HNO3)    +塩化チオニル (SOCl2)    +エチレンジアミン

    本手法=2 時間,水,もしくは    アンモニア水溶液だけ

    3.0

    2.5

    2.0

    1.5

    1.0

    0.5

    0.0

    Abs

    orpt

    ion

    Coe

    ffic

    ient

    (cm

    -1)

    302520151050

    Treatment time (min)

    Conventional SP

    3D Integratedmicro SP

    5 kV, 20 kHz, TON = 2.3 us

    Methylene blue

    3.8 mg/L, 150 mL , 30

    oC

    Ar 1.1 L/min

    0 10 20 30 40 50 60

    Time (min)

    AuHCl4 0.15 mM

    2 nm

    0.23

    5 nm

    {111

    } {111}

    {111}

    (d) Single crystal

    (b) Icosahedron

    2 nm

    (a) Icosahedron

    2 nm

    (c) Icosahedron

    2 nm

    T. Shirafuji, J. Ueda, A. Nakamura, S. -P. Cho, N. Saito and O. Takai:Jpn. J. Appl. Phys. 52, 126202 (5pp) (2013).

    1.0

    0.8

    0.6

    0.4

    0.2

    0.0

    Abso

    rptio

    n co

    effic

    ient

    (cm

    -1)

    800700600500400300

    Wavelength (nm)

    0.15 mM

    60 min50 min

    40 min30 min

    20 min10 min

    大量高速連続合成の可能性(粒径制御が課題)→プラズマ・液ナノ界面の物理と化学の解明が必須

    1 cm

    多孔質体内の内壁コーティングや内壁修飾に使えるかも?

    (スキャフォールドの処理など)

    液面上放電を使うと液面上にナノ粒子含有薄膜

    の形成が可能

    殺菌

    0D SP

    3D SP

    Time (h) Elec. (Wh) Gas (m3)

    1.04

    0.16

    94.4

    6.4

    0

    0.01

    3,187 円

    527 円 98 円

    0円

    Total (JPY)

    3,187 円

    625 円

    6.5倍速・料金1/5

    電気代=基本 (334.22JPY)+30.23(JPY/Wh)xElec(Wh) (関西電力)ガス代=アルゴン 1 本 (9,450JPY/7m3)x(Gas/7)(ネリキガス)

    Liquid in

    φ30 mm

    Liquid outMetalelectrode

    Insulator

    φ30 mm

    φ 6 mm (Out. Diam.)φ 1 mm (Inn. Diam.)

    1 mm

    Tungstenφ1 mm

    Gap

    Al2O3

    BorosilicateGlass (Duran)t 2 mm

    Insulator

    Plasma

    Porousdielectric

    HV metalelectrode

    Liquid in

    Insulator

    φ30 mm

    Gas

    Liquid out

    φ2 mm x 6

    BorosilicateGlass (Duran)t 2 mm

    Silicate glassPore diameter1 mm (average)

    SUS3041/4 inch (OD)

    φ3

    0 m

    m t 3 mmPlasma

    Plasma

    T. Shirafuji, Y. Himeno, N. Saito and O. Takai: J. Photopolym. Sci. Technol., 26, 507-511 (2013).

    従来のゼロ次元(点型)のソリューションプラズマ

    ガス不要,だが消費電力が大

    低消費電力,だがガス必要

    我々の三次元(体型)の集積化ソリューション

    プラズマ

    対決

    0D SP

    3D SP

    1 mm

    Automobiles

    Eco-ships

    High-speed trains

    Airplanes

    無処理引張・曲げ強度は向上するが,衝撃強度が低下⇐ナノ材料と母材の低親和性

    SP処理衝撃強度をある程度維持しつつ引張・曲げ強度が向上⇐ナノ材料と母材の親和性向上

    Extrusion

    +

    Composite

    ナイロン(ポリアミド6)

    CNB(Carbon nanoball)or

    CNT(carbon nanotube)

    コンポジット(複合)

    生の PA6 無処理 CNBとの複合

    PA6

    1mm

    PA6+CNB

    1mm

    PA6+CNB/SPP

    1mm

    PA6 PA6+CNB PA6+CNB/SPP

    1cm1cm 1cm

    SP 処理 CNBとの複合

    複合材料形成への応用

    Co

    ntr

    ol

    3D

    IMS

    P

    0 min 1.5 min 3 min 6 min

    直接処理=大腸菌の殺菌が可能,だが,

    プラズマ処理した水にも殺菌効果があった

    「プラズマ処理水=単なる過酸化水素水?」 

    かどうかを確認中

    (a) (b)treated with the PTWwitnin 30 minutes ofits preparation

    treated with the PTWafter 24 hours of itspreparation

    24 時間放置した水の方が効果が高い.なぜ?(調査中)