ウェハウェハ高速熱処理装置高速熱処理装置（（RTP/RTARTP/RTAシステム）システム）

AccuThermoAccuThermo シリーズシリーズ

●化合物半導体 プロセス● 太陽電池セル プロセス● ナノテクノロジー

AccuThermo AW410 AccuThermo AW610 AccuThermo AW810

AccuThermo AW410

● 2インチ ～ 4インチモデル

AccuThermo AW610

● 4インチ ～ 6インチモデル

AccuThermo AW810

● 5インチ ～ 8インチモデル

Allwin 21 社のRTP/RTA装置 AccuThermo シリーズ はAG Associates社AG Heatpulse シリーズの後継機種にあたる、デスクトップ

型の最新型高速ランプ熱処理装置です。強力な近赤外照射により、2インチ～8インチまでのシングルウェハを短時間かつ正確にコントロールされた温度で加熱処理します。加熱チャンバーのCOLD-WALLデザイン、優れた加熱均一性、高度な温度制御技術、および最新の制御ソフトウェアにより、従来の加熱炉やRTPシステムと比較して圧倒的な優位性があります。Allwin 21社は米国Applied Materialの子会社であるMetron社より独占的なライセンス供与を受けてRTPシステムを製造しています。

UpUp

AccuThermo シリーズ

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高速加熱・高速冷却が行えます。

サンプルの上下面に配列された、近赤外線タングステンハロゲンランプがサンプルを非接触で高速に加熱します。また水冷式COLD-WALLチャンバーと石英チューブの常時空冷により、高速にサンプルの冷却を行うことが出来ます。

最大加熱速度：150℃/sec最大冷却速度：150℃/sec

正確かつ自在な温度-時間プロファイルで熱処理が行えます。

任意のプロセスガス雰囲気下で熱処理が行えます。AW410とAW610には、標準で1台のMFC（マスフローコントローラ）、AW810には、標準で2台のMFCが搭載されており、いずれの機種も最大4台のMFCをシステムに組み込むことが可能です。プロセス中のガスフローはPCによりコントロールされます。

標準のプロセスガスは、酸素・窒素・アルゴン・フォーミングガスで、オプションにてアンモニア・塩化水素・水素・四フッ化メタンなどのガスにも対応可能です。

付属のAW RTP/RTAソフトウェアにより、オペレータは容易にレシピ編集および、熱処理の実行を行うことができます。レシピ編集での各プロセス制御の時間範囲は0～30,000sec（分解能0.1sec）で最大40ステップまでのプロファイルが作成できます。また各ステップにおけるプロセスガスの流量もセッティングできます。 プロセス中はモニタ上でリアルタイム（18.6 サンプリング/秒）で、実測

温度、ガス流量、ランプ出力等のプロットを確認できます。

〈レシピ編集画面〉 〈リアルタイムプロセスモニタ〉〈メインメニュー〉

オーバーシュート、アンダーシュートのない理想的な熱処理が行えます。

Overshoot Undershoot

Second undershoot Oscillations

〈理想的なプロファイル〉

〈従来のPID制御で起こりやすい、問題のあるプロファイル〉

AccuThermoシリーズには、Allwin21社で開発された独自の温度制御アルゴリズムが組み込まれており、従来のPID制御では調整が困難であったオーバーシュート、アンダーシュート、発振などの問題が解決されています。高解像度14～16bits A/D, D/Aコンバータによる

精密なランプコントロールと最新の温度制御アルゴリズムにより、理想的な温度プロファイルを実現しています。

最高温度：1250℃

特 長

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プロセス間、ウェハ間において再現性の高い熱処理が行えます。

パイロメータ（非接触高温計）を組み込むことができます。※オプション

標準仕様ではサンプル（またはサセプタ）に接触させた熱電対の実測温度をフィードバックしながら温度制御を行いますが、熱電対の劣化やアウトガスの問題が発生する800℃以上の熱処理ではパイロメータオプションの使用を推奨します。AccuThermoシリーズでは水冷式デュアルレンジパイロメータを採用しており、400℃～1250℃の広域温度測定に対応しています。

パイロメータ本体 パイロメータ対応特殊石英チューブ

パイロメータ冷却用チラーユニット

〈熱電対キャリブレーション〉 〈パイロメータキャリブレーション〉 〈チャンバー / ランプキャリブレーション〉 〈ガスA/Dキャリブレーション〉

AW RTP/RTAソフトウェアの各種キャリブレーション（校正）プログラムを実行することにより、システムを常に一定のコンディションに

保つことが可能です。 充実したキャリブレーションメニューにより、プロセス間、ウェハ間の高い熱処理再現性が保証されます。

徹底した安全対策、システム保護対策がとられています。

AccuThermoシリーズでは、PCがフリーズした際にランプへの電力供給を即時遮断するウォッチドッグ機能をはじめ、システム診断機能、ランプ損傷検出機能、ランプの異常出力監視機能（チューブの汚染や熱電対トラブルに対応）、非常停止SWなどの安全、保

護対策が取られており、安心してシステムをご使用いただけます。

コンパクト・省スペースで、かつ高エネルギー効率です。AccuThermoシリーズは、全てのモデルがデスクトップ型システムでコンパクト、省スペースです。 また、投入電力が非常に高い効率で赤外線放射エネルギーに変換されます。例えば太陽電池プロセスにおいてはエネルギー回収時間を大幅に短縮できます。

特 長

〈システム診断〉 〈ボードテスト〉

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LED 2インチウェハの高速熱処理ソリューション

太陽電池セル の高速熱処理ソリューション

AccuThermo AW810 は2インチウェハでLEDを生産しているお客様に対し、最高の高速熱処理（RTP） 生産ソリューションを提供します。

AW810では1バッチで16 枚の2インチウェハを処理でき、処理能力は300 ウェハ毎時になります。 以下の利点により今やLEDの生産には従来の加熱炉に代わってAccuThermoAW810を使用するべきです。

● 温度均一性の大幅な改善● ウェハ間プロセス再現性の大幅な改善● 熱処理品質の安定性の大幅な改善● 熱処理時間の短縮および熱容量の低減● 省スペース および高いエネルギー効率

AccuThermo シリーズ は最先端の次世代太陽電池プロセスを開発している世界

中のユーザーで使用されています。Allwin21社の先進の高速熱処理（RTP）テクノロジーの導入により、従来不可能とされたプロセス手法で低コストのサブストレート（Siウェハ）を使用することが出来ま

す。

● SiNx 反射防止膜太陽電池の特性向上，ライフタイム向上● P 拡散による不純物ゲッタリング● 欠陥パシベーションへの水素拡散処理● N/P 接合コンタクト● フロントサイド，バックサイドスクリーン印刷コンタクト形成● CIGS太陽電池の製造プロセス

アプリケーション

イオン注入後の活性化処理

Poly-Siliconのアニール

酸化物のリフロー

シリサイド形成

化合物半導体プロセス

酸化膜・窒化膜形成

その他各種熱処理

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チップ製造

化合物半導体：GaAs，GaN，GaP，GaInP，InP，SiC

光半導体：LD，LED，VCSEL，オプティカルウェーブガイド

MEMS，マイクロマシン

ナノテクノロジー

太陽電池セル

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アプリケーション アプリケーションエリア

AW610の４，5，6インチウェハ対応 石英トレイとサーモカップル（熱電対）レイアウト

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〒110-0005 東京都台東区上野1-17-6 TEL：03（3836）2800 FAX：03（3836）2266

URL：http://www.HiSOL.jp※記載の内容は予告なく変更することがございます。予めご了承下さい。Copyright (C) 2009 HiSOL.inc

オプション

ウェハサイズ

チャンバー材質

温度制御範囲

昇温速度

降温速度

温度測定精度

温度繰り返し精度

加熱時間制御範囲

対応雰囲気ガス種

プロセスガス入力ポート数

プロセスガス流量制御範囲

制御用PCプロセスデータの検出・表示

装置寸法・重量※3

ユーティリティ

電源

冷却水

冷却用ガス

排気

安全対策

AccuThermoAW410

AccuThermoAW610

AccuThermoAW810

2，3，4 inch φ+100℃～ +1250℃

4，5，6 inch φ 5，6，8 inch φ

10℃ / sec ～ 150℃ / sec ※110℃ / sec ～ 150℃ / sec ※2

±1℃±0.5℃

ステップあたり 0 ～ 30000 secHi-HEATコーティング アルミニウム Auコーティングアルミニウム

チャンバー冷却方式 水冷式

N2，O2，Ar2，フォーミングガス（オプション：CF4，NH3，HCI，H2）標準1（オプション：最大4） 標準2（オプション：最大4）

0 ～ 10S L / min（MFCによる制御）

Pentium Class ミニPC，17インチ液晶モニタ，キーボード，マウス

リアルタイムデータ検出，表示，リアルタイムプロット表示（A/D D/A 14 ～ 16 bits）ランプ損傷検出，センサー状態検出，PCトラブル時の自動停止機能，非常停止SW

W457×D432×H254mm・50kg W864×D585×H381mm・100kgAC200V 三相 50/60Hz ・40A AC200V 三相 50/60Hz・50A AC200V 三相 50/60Hz・70A供給圧力 ： 0.4MPa圧力差 ： 0.25MPa ～ 0.35MPa使用流量 ： 7.5L / min（0.45m3/h）水温 ： +3℃～ +35℃

N2 または ドライエア（オイルフリー，露点温度+10℃以下） 0.14MPa，280L / min以上

570L / min以上

※1 試料の材質、サイズにより変動します。※2 試料の材質、サイズにより変動します。 また物理的冷却速度を超える速度制御は対応できません。※3 装置寸法・重量には、PCおよび周辺機器は含まれておりません。

仕 様

広域レンジパイロメータ（ERP：Extended Range Pyrometer）

Calibration Wafer （K type 熱電対埋め込み Si ウェハ）

Omega Calibration Meter

プロセスガス入力ポート数 2（MFC付）

プロセスガス入力ポート数 3（MFC付）

プロセスガス入力ポート数 4（MFC付）

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プロセスガス遮断弁

真空排気仕様（AW810のみ）

ステンレス製チャンバー（AW410，AW610のみ）

冷却水循環ユニット

各種除害装置（乾式，湿式スクラバー）

専用システム架台

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● 各種サセプタ

赤外線を透過する、化合物半導体やガラス基板などの加熱時に使用します。各種素材、形状をご用意しております。

材質： カーボン（SiCコーティング）純SiCシリコンウェハ埋め込み etc.