最新型 イオンアシスト蒸着装置 EPD-1350/1600

これまでの概念に全くとらわれない

94層IR-cutサンプル断面SEM像

Ra＝1.32nm

ランニングコストを「削減」

「低散乱(低Haze)」な 革新的装置 高機能膜に最適な

Haze値:0.05

」 「

「超多層膜」を実現

タクトタイムを「短縮」

TiO2/SiO2 94層11μmの多層膜において、 ラフネスを抑え 「低Hazeを実現」

EPD-1350/1600

高品質膜を実現する独自IAD方式 “EPD technology” 従来のIADではできなかった、 散乱のない TiO2 /SiO2 での10um多層膜 低散乱と低応力の両立 ターボ分子ポンプ(TMP) 蒸着装置 Oilフリーによる真空品質向上 膜へのカーボンの混入抑制 省エネ 同サイズDP装置と比べ消費電力 約1/2 メンテナンス扉 複数扉によるメンテ性向上 メンテナンスによるCRの汚染防止 生産性の向上 当社従来IAD1350装置と比べ EPD-1350：24%Up EPD-1600：61%Up

式 社シンクロン 220-8680 なと 4-3-5

TEL:045-650-2411 http://.shincron.co.jp

製品紹介スライド番号 1

EPD-1350、1600スライド番号 1スライド番号 2

RAS-1600スライド番号 1スライド番号 2